半导体CD（Critical Dimension）和OVL（Overlay）丈量设备是芯片造作过程中不成或缺的工具。。。。。。。CD丈量设备用于精确丈量半导体晶圆上微幼特点的尺寸，，， ，， ，确保它们切合设计规格。。。。。。。这对于维持芯片机能和良率至关沉要。。。。。。。OVL丈量设备则用于评估分歧造作步骤中图案层之间的对准精度，，， ，， ，保障各层图案可能精确沉合，，， ，， ，从而预防电路职能失效。。。。。。。通过高精度的丈量，，， ，， ，半导体CD和OVL设备援手工程师实时发现和解决出产中的问题，，， ，， ，确保最终产品的质量和机能。。。。。。。
维普Vortex系列机台，，， ，， ，选取UV光学成像及反射、透射照明光源。。。。。。。搭配高精度的边缘探测算法，，， ，， ，可实现亚像素级丈量精度。。。。。。。同时兼容Mask及晶圆的CD量测。。。。。。。
Vortex 2000
Vortex 2000是维普推出针对晶圆半自动光学关键尺寸及套刻丈量设备，，， ，， ，基于高分辨率的光学成像系统，，， ，， ，支持透射、反射两种照明模式，，， ，， ，可兼容Mask/Wafer的关键尺寸量测。。。。。。。搭配高机能的运动台，，， ，， ，提高丈量过程中定位效能，，， ，， ，削减稳态抖动，，， ，， ，以满足丈量沉复性的刻薄要求。。。。。。。
利用场景
针对4、6、8、12寸晶圆、光罩Mask关键尺寸及套刻精度丈量。。。。。。。
关键个性
- 可同时兼容最大12寸晶圆及Mask的CD量测
- 支持UV、白光照明及光学系统
- 支持透射光（用于Mask）、反射光量测
- 光学系统基于Recipe的自动丈量
- 支持灰度阈值、灰度变动率、直线拟合等多种线宽丈量步骤
- 多持非线性赔偿职能
- 支持低对比度下的线宽丈量
- 支持通过GDS文件进行急剧定位的丈量
- 提供摇杆、专用节造键盘进行平台定位以及常用职能的快捷操作
